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Novellus為193nm微影開發VECTOR AHM技術
上網時間:2007年09月14日

諾發系統(Novellus)稍早前發佈了VECTOR Express電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)系統的新一代版本──VECTOR Ex...[ 閱讀全文 ]


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問題： Novellus為193nm微影開發VECTOR AHM技術 發表時間： 2007/9/14 下午 5:53
 

提問者： 四大皆空

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諾發系統(Novellus)稍早前發佈了VECTOR Express電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)系統的新一代版本──VECTOR Extreme，據稱可將每小時產量提高250片，是專門針對需要極大產量的DRAM或快閃記憶體製程所設計。另外，該公司也宣佈，已針對45奈米及以下製程所需的193奈米浸潤式微影技術，推出了VECTOR Ashable Hard Mask (AHM)平台。
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問題： Novellus為193nm微影開發VECTOR AHM技術 發表時間： 2007/9/14 下午 5:53
 

提問者： 四大皆空

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諾發系統(Novellus)稍早前發佈了VECTOR Express電漿輔助化學氣相沉積(PECVD)系統的新一代版本──VECTOR Extreme，據稱可將每小時產量提高250片，是專門針對需要極大產量的DRAM或快閃記憶體製程所設計。另外，該公司也宣佈，已針對45奈米及以下製程所需的193奈米浸潤式微影技術，推出了VECTOR Ashable Hard Mask (AHM)平台。
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第 1 樓 Novellus為193nm微影開發VECTOR AHM技術 發表時間： 2007/10/2 上午 2:28
 

提問者： 偉倫

等級： 鐘點工讀生

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Novellus in the CVD or PVD 這方面是我們公司的競爭對手
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